[양태훈기자] 어플라이드머티어리얼즈(이하 어플라이드)는 10나노미터 이하의 '멀티플 패터닝 스케일링'에 요구되는 차세대 광학 리소그래피 포토마스크 식각이 가능한 '센츄라 테트라Z 포토마스크 식각 장비'를 출시한다고 21일 발표했다.
패터닝이란 반도체를 생산하기 위해 반도체의 재료가 되는 웨이퍼 위에 회로를 만드는 과정을 말한다.
이는 패턴이 새겨진 얇은 필름(포토마스크)을 빛에 노출해 반복적으로 웨이퍼 위에 회로를 그리고, 이후 식각(화학용액 등을 이용해 웨이퍼상의 필요한 부분만을 남기고 나머지는 제거하는 것)하는 과정을 장비를 통해 반복하는 방법으로 구현된다.
센츄라 테트라Z 포토마스크 식각 장비는 모바일 애플리케이션 프로세서(모바일AP) 등의 로직(논리회로) 및 메모리 제품 설계를 위한 패터닝 성능을 충족, 4중 패터닝 및 해상도 향상을 위한 이머전 리소그래피(웨이퍼와 마스크 사이에 위치하는 현미경에 물을 채워 빛의 굴절률을 높이는 방식) 확장을 지원한다.
패턴을 웨이퍼 위에 그리는 전사 성능 역시 모든 크기를 균일하고 직선으로 정밀하게 식각할 수 있어 무결점 상태의 패턴 밀도의 구현이 가능하다는 게 회사측 설명이다.
어플라이드 라오 야라만치리 마스크 식각 장비 부서 총괄 책임자는 "테트라Z는 진보된 노드 설계의 패터닝을 위해 차세대 광학 포토마스크 식각에 요구되는 정확성을 제공하는 유일한 장비"라고 말했다.
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