인텔, 45나노 반도체 시대 열어

세계적 반도체 업체 인텔이 세계 최초로 45나노미터 반도체시대를 열었다.

인텔은 26일 45나노미터 공정 기술을 사용하는 첫 번째 완전 기능 S램을 제조함으로써 45나노 로직 기술 개발에 있어 중요한 전기를 마련했다고 발표했다.

10억개의 트랜지스터를 가진 45나노 S램 칩 개발은 45나노 제조 공정에 기반한 본격적 프로세서 및 기타 로직 칩 생산에 앞서 기술 성능, 공정 산출, 칩 신뢰도 등을 입증하는 단계. 대량 생산을 위한 핵심적인 첫 발을 내디딘 것이란 것이 인텔측의 설명.

현재 인텔은 미국 아리조나와 오레곤에 있는 65나노 칩 제조 시설과 곧 완공 예정인 영국 아일랜드와 미국 오레곤의 제조 시설을 통해 65나노 공정 기술 기반 반도체의 대량 생산을 주도하고 있다.

초기 45나노 개발 노력이 진행되고 있는 오레곤의 D1D 설비 제조 능력과 더불어, 인텔은 45나노 공정 기술 기반의 칩 제조를 위해 아리조나에 있는 팹32와 이스라엘에 있는 팹28 등 두 개의 대규모 팹을 건설 중이다.

인텔은 이들 팹을 이용 오는 2007년부터 300mm 웨이퍼 상에서 45나노 기술을 적용한 마이크로프로세서를 제조할 예정이다.

인텔코리아의 이희성 사장은 "인텔은 65나노 공정 기술을 통한 대량 생산 실현 및 실제로 작동하는 45나노 칩을 최초로 선보임으로써 칩 제조에 있어 선두적 지위를 다시 한번 입증해 보였다"라며 "인텔의 45나노 기술은 와트당 성능을 향상시킨 PC를 통해 사용자 경험을 한층 확대하는 기반이 될 것"이라고 말했다.

◆더욱 미세하게...반도체 업계 나노경쟁 격화

현재 세계 주요 반도체 업체들은 더욱 미세한 나노기술을 개발하기 위해 치열한 경쟁을 벌이고 있다.

인텔은 90나노 기반 마이크로프로세서에 이어 최근 65나노 기술을 이용한 코어듀어 프로세서로 저전력 프로세서 시장을 주도하고 있고 이번에 45나노 기술로의 진화를 이뤄냈다.

IBM도 현 90나노 수준에서 한단계 나아간 65나노 기술을 삼성전자, AMD 등과 함께 개발하고 있고 45나노에 대한 초기 연구도 진행중이다.

삼성전자의 경우 지난해 50나노 기반 낸드플래시 개발에 성공하며 메모리 반도체를 중심으로 나노기술의 발전에 주력하고 있다.

이렇듯 각 업체들이 나노기술 발전에 주력하고 있는 것은 보다 미세 공정이 도입될 수록 작은 칩사이즈 제작이 가능하고 전력 소모량이 대폭 감소되기 때문.

인텔의 45나노 공정 기술의 경우 현재 공급되고 있는 칩보다 전력 누출량이 5분의 1 이하로 감소된다. 소비전력 감소는 모바일 기기의 배터리 수명 증가와 더 작은 사이즈를 구현할 수 있게 해준다.